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碳化硅粉末设备

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碳化硅粉末的生产和应用

碳化硅粉末是制造用于加工金属、陶瓷、石材和其他材料的磨料的重要材料。 碳化硅粉末的硬度仅次于金刚石,具有极高的研磨性能。 陶瓷 碳化硅粉末的生产和应用碳化硅粉末是制造用于加工金属、陶瓷、石材和其他材料的磨料的重要材料。 碳化硅粉末的硬度仅次于金刚石,具有极高的研磨性能。 陶瓷

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绍兴晶彩科技有限公司-高纯碳化硅粉体、半导体材料制造商

2024年3月11日  CVD法是一种常用的化学气相沉积技术,通过将硅源和碳源气体在高温条件下分解反应生成SiC粉末。 而自蔓延合成法则是一种基于化学反应热的合成方法,通过点 绍兴晶彩科技有限公司-高纯碳化硅粉体、半导体材料制造商2024年3月11日  CVD法是一种常用的化学气相沉积技术,通过将硅源和碳源气体在高温条件下分解反应生成SiC粉末。 而自蔓延合成法则是一种基于化学反应热的合成方法,通过点

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碳化硅原料合成炉(100~150kg,电阻式)

合成可用于单晶生长的高纯SiC粉料的设备。 可提供半定制化服务 高真空 腔体内壁经镜面抛光,减少气体附着; 各表面严密结合,避免产生泄露; 大抽速泵体,实现快速抽空功能; 高密封性阀体,实现长时间的真空保压。 碳化硅原料合成炉(100~150kg,电阻式)合成可用于单晶生长的高纯SiC粉料的设备。 可提供半定制化服务 高真空 腔体内壁经镜面抛光,减少气体附着; 各表面严密结合,避免产生泄露; 大抽速泵体,实现快速抽空功能; 高密封性阀体,实现长时间的真空保压。

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高纯碳化硅粉体合成方法研究现状综述

2020年3月24日  中国电子科技集团公司第二研究所的李斌等采用自蔓延法合成单晶生长用碳化硅粉体,实验中发现高真空条件下合成的碳化硅粉体纯度优于通载气条件下合成的碳化 高纯碳化硅粉体合成方法研究现状综述2020年3月24日  中国电子科技集团公司第二研究所的李斌等采用自蔓延法合成单晶生长用碳化硅粉体,实验中发现高真空条件下合成的碳化硅粉体纯度优于通载气条件下合成的碳化

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碳化硅粉末要点:优点与应用

碳化硅粉末是一种用途广泛的高效材料,可用于各种工业和工程应用领域。碳化硅粉末的独特性能使其成为磨料、陶瓷和热能工程等领域高要求任务的理想选择。拥有近二十年的行业 碳化硅粉末要点:优点与应用碳化硅粉末是一种用途广泛的高效材料,可用于各种工业和工程应用领域。碳化硅粉末的独特性能使其成为磨料、陶瓷和热能工程等领域高要求任务的理想选择。拥有近二十年的行业

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高纯碳化硅粉体合成方法及合成工艺展望_化学

2020年8月21日  SiC粉体的合成方法多种多样,总体来说,大致可以分为三种方法。. 第一种方法是固相法,其中具有代表性的有碳热还原法、自蔓延高温合成法和机械粉碎法;第二种方法是液相法,其中具有代表性的方法主 高纯碳化硅粉体合成方法及合成工艺展望_化学2020年8月21日  SiC粉体的合成方法多种多样,总体来说,大致可以分为三种方法。. 第一种方法是固相法,其中具有代表性的有碳热还原法、自蔓延高温合成法和机械粉碎法;第二种方法是液相法,其中具有代表性的方法主

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山东国晶电子科技有限公司

2020年8月21日  国晶电子目前生产和销售的一款商用型碳化硅单晶生长炉SiC-Res-2CR-6,可以生长4英寸-8英寸碳化硅晶体, 采用国际首创的双坩埚独立控制技术,可以同时生长2个晶体。 山东国晶电子科技有限公司2020年8月21日  国晶电子目前生产和销售的一款商用型碳化硅单晶生长炉SiC-Res-2CR-6,可以生长4英寸-8英寸碳化硅晶体, 采用国际首创的双坩埚独立控制技术,可以同时生长2个晶体。

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碳化硅粉末综合指南

碳化硅粉末具有无与伦比的硬度、导热性和化学惰性,是制造、电子甚至个人 DIY 项目中不可或缺的资源。 我们的优质碳化硅粉末符合最高的质量和性能标准,确保我们的客户得 碳化硅粉末综合指南碳化硅粉末具有无与伦比的硬度、导热性和化学惰性,是制造、电子甚至个人 DIY 项目中不可或缺的资源。 我们的优质碳化硅粉末符合最高的质量和性能标准,确保我们的客户得

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什么是碳化硅粉末—碳化硅粉末标准及应用 - Silicon

2020年3月31日  碳化硅粉末是一种超硬材料,产品采用绿色碳化硅砂经研磨分级提纯制成,其粒度均匀、硬度高、脆性大、自锐性强,切削能力较强,化学性质稳定,导热性好,可以用作研磨粉、研磨膏类使用 什么是碳化硅粉末—碳化硅粉末标准及应用 - Silicon 2020年3月31日  碳化硅粉末是一种超硬材料,产品采用绿色碳化硅砂经研磨分级提纯制成,其粒度均匀、硬度高、脆性大、自锐性强,切削能力较强,化学性质稳定,导热性好,可以用作研磨粉、研磨膏类使用

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大尺寸碳化硅激光切片设备与技术 - 艾邦半导体网

1 天前  大尺寸碳化硅激光切片设备与技术. 近日,南京大学成功研发出大尺寸碳化硅激光切片设备与技术,标志着我国在第三代半导体材料加工设备领域取得重要进展。. 不仅解决了碳化硅 切割 材料损耗率高的问题,还大大提升了产率。. 来源:南京大学官网. SiC不仅是 ... 大尺寸碳化硅激光切片设备与技术 - 艾邦半导体网1 天前  大尺寸碳化硅激光切片设备与技术. 近日,南京大学成功研发出大尺寸碳化硅激光切片设备与技术,标志着我国在第三代半导体材料加工设备领域取得重要进展。. 不仅解决了碳化硅 切割 材料损耗率高的问题,还大大提升了产率。. 来源:南京大学官网. SiC不仅是 ...

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碳化硅原料合成炉(100~150kg,电阻式)

碳化硅原料合成炉 (100~150kg,电阻式) 首页 产品 晶体生长加工设备 碳化硅(SiC)长晶炉. 采用电阻加热和改进的自蔓延高温合成法,. 合成可用于单晶生长的高纯SiC粉料的设备。. 可提供半定制化服务. 高真空. 腔体内壁经 碳化硅原料合成炉(100~150kg,电阻式)碳化硅原料合成炉 (100~150kg,电阻式) 首页 产品 晶体生长加工设备 碳化硅(SiC)长晶炉. 采用电阻加热和改进的自蔓延高温合成法,. 合成可用于单晶生长的高纯SiC粉料的设备。. 可提供半定制化服务. 高真空. 腔体内壁经

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高纯碳化硅粉体合成方法及合成工艺展望_化学

2020年8月21日  碳化硅粉体合成采用高纯碳粉和硅粉直接反应,通过高温合成的方法生成。. 碳化硅粉体合成设备主要技术难点在于高温高真空密封与控制、真空室水冷、真空及测量系统、电气控制系统、粉体合成坩埚加热 高纯碳化硅粉体合成方法及合成工艺展望_化学2020年8月21日  碳化硅粉体合成采用高纯碳粉和硅粉直接反应,通过高温合成的方法生成。. 碳化硅粉体合成设备主要技术难点在于高温高真空密封与控制、真空室水冷、真空及测量系统、电气控制系统、粉体合成坩埚加热

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碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势 - 艾邦半导体网

1 天前  本文以研究第三代半导体碳化硅衬底磨抛加工 技术为目的,综述了机械磨抛技术、化学反应磨抛技 术的进展. 根据去除机理的不同,划分并总结现有磨 抛技术的特点:传统机械磨抛拥有较高的材料去除 率,但是其加工质量较差,且损伤严重;而化学腐蚀 反应磨 ... 碳化硅衬底磨抛加工技术的研究进展与发展趋势 - 艾邦半导体网1 天前  本文以研究第三代半导体碳化硅衬底磨抛加工 技术为目的,综述了机械磨抛技术、化学反应磨抛技 术的进展. 根据去除机理的不同,划分并总结现有磨 抛技术的特点:传统机械磨抛拥有较高的材料去除 率,但是其加工质量较差,且损伤严重;而化学腐蚀 反应磨 ...

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预计2029年全球高纯碳化硅粉末市场规模将达到2.5亿美元 ...

2023年11月10日  据QYR最新调研,2023年中国高纯碳化硅粉末市场销售收入达到了 万元,预计2030年可以达到 万元,2024-2030期间年复合增长率(CAGR)为 %。本研究项目旨在梳理高纯碳化硅粉末领域产品系列,洞悉行业特点、市场存量空间及增量空间,并结合市场 ... 预计2029年全球高纯碳化硅粉末市场规模将达到2.5亿美元 ...2023年11月10日  据QYR最新调研,2023年中国高纯碳化硅粉末市场销售收入达到了 万元,预计2030年可以达到 万元,2024-2030期间年复合增长率(CAGR)为 %。本研究项目旨在梳理高纯碳化硅粉末领域产品系列,洞悉行业特点、市场存量空间及增量空间,并结合市场 ...

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碳化硅粉末的合成方法

2015年12月2日  碳化硅在地球上几乎不存在,仅在陨石中有所发现,因此,工业上应用的 碳化硅 粉末都为人工合成。 目前,合成碳化硅粉末的主要方法有: 1、Acheson法: 这是工业上采用最多的合成方法,即用电将石英砂和焦炭的混合物加热至2500℃左右高温反应制得。 碳化硅粉末的合成方法2015年12月2日  碳化硅在地球上几乎不存在,仅在陨石中有所发现,因此,工业上应用的 碳化硅 粉末都为人工合成。 目前,合成碳化硅粉末的主要方法有: 1、Acheson法: 这是工业上采用最多的合成方法,即用电将石英砂和焦炭的混合物加热至2500℃左右高温反应制得。

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机械粉碎法制备碳化硅粉末的工艺选择

2022年11月25日  碳化硅又称碳硅石。在当代C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中,碳化硅为应用***、经济的一种。可以称为金钢砂或耐火砂。碳化硅是人造的强共价键的非氧化物陶瓷材料,具有高技术、高附加值的特点,超细粉末的的碳化硅具有高的热导率,较强的***性能,在高温下依然具有较大的强度,因此在 ... 机械粉碎法制备碳化硅粉末的工艺选择2022年11月25日  碳化硅又称碳硅石。在当代C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中,碳化硅为应用***、经济的一种。可以称为金钢砂或耐火砂。碳化硅是人造的强共价键的非氧化物陶瓷材料,具有高技术、高附加值的特点,超细粉末的的碳化硅具有高的热导率,较强的***性能,在高温下依然具有较大的强度,因此在 ...

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碳化硅粉末的生产和应用

碳化硅粉是冶金、建材和化工等行业制造高温炉、窑、坩埚等耐火材料的重要原料。. 碳化硅粉的耐高温性能超过 2000°C,适用于生产炉衬砖和炉衬板,可有效延长高温炉的使用寿命并降低生产成本。. 磨料. 碳化硅粉末是制造用于加工金属、陶瓷、石材和其他 ... 碳化硅粉末的生产和应用碳化硅粉是冶金、建材和化工等行业制造高温炉、窑、坩埚等耐火材料的重要原料。. 碳化硅粉的耐高温性能超过 2000°C,适用于生产炉衬砖和炉衬板,可有效延长高温炉的使用寿命并降低生产成本。. 磨料. 碳化硅粉末是制造用于加工金属、陶瓷、石材和其他 ...

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碳化硅设备行业深度报告:多技术并行,衬底切片设备加速 ...

2023年4月26日  1)碳化硅切割设备方面:国内首款高线速碳化硅金刚线切片机 GCSCDW6500可获得和砂浆切割相同的晶片质量,同时大幅提升切割效率, 显著降低生产成本,行业内独家实现批量销售,实现国产替代,同时公 司已推出适用于 8 寸碳化硅衬底切割的碳化硅金刚线 碳化硅设备行业深度报告:多技术并行,衬底切片设备加速 ...2023年4月26日  1)碳化硅切割设备方面:国内首款高线速碳化硅金刚线切片机 GCSCDW6500可获得和砂浆切割相同的晶片质量,同时大幅提升切割效率, 显著降低生产成本,行业内独家实现批量销售,实现国产替代,同时公 司已推出适用于 8 寸碳化硅衬底切割的碳化硅金刚线

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Ferrotec全球 - 气相沉积碳化硅产品(CVD-SiC)

碳化硅部件(CVD-SiC). 以自行研发的CVD法生产,实现了超高纯度,高耐热性,高耐磨性的碳化硅产品. 碳化硅产品是硅(Si)和碳(C)1比1结合而成的一种化合物,具有较高的抗磨损性、耐热性和耐腐蚀性。. 它们被广 Ferrotec全球 - 气相沉积碳化硅产品(CVD-SiC)碳化硅部件(CVD-SiC). 以自行研发的CVD法生产,实现了超高纯度,高耐热性,高耐磨性的碳化硅产品. 碳化硅产品是硅(Si)和碳(C)1比1结合而成的一种化合物,具有较高的抗磨损性、耐热性和耐腐蚀性。. 它们被广

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碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 - 国家自然科学基金 ...

2021年7月21日  碳化硅,第三代半导体时代的中国机会. 5G通信、电动汽车等新兴产业对碳化硅材料将产生巨大需求,大力发展碳化硅产业,可引领带动原材料与设备两个千亿级产业,助力我国加快向高端材料、高端设备制造业转型发展的步伐。. 今年发布的“‘十四五’规划和 ... 碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 - 国家自然科学基金 ...2021年7月21日  碳化硅,第三代半导体时代的中国机会. 5G通信、电动汽车等新兴产业对碳化硅材料将产生巨大需求,大力发展碳化硅产业,可引领带动原材料与设备两个千亿级产业,助力我国加快向高端材料、高端设备制造业转型发展的步伐。. 今年发布的“‘十四五’规划和 ...

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陶瓷粉末伺服成型机——氧化铝、氧化锆、碳化硅方案_设备 ...

2023年9月18日  碳化硅是一种超硬材料,莫氏硬度为9.5,具有硬度高、强度高、抗氧化和耐磨性能好等优异性能。碳化硅主要有四大应用领域:功能陶瓷、高级耐火材料、磨料及冶金原料。陶瓷粉末伺服成型机——氧化铝、氧化锆、碳化硅方案 陶瓷粉末伺服成型机——氧化铝、氧化锆、碳化硅方案_设备 ...2023年9月18日  碳化硅是一种超硬材料,莫氏硬度为9.5,具有硬度高、强度高、抗氧化和耐磨性能好等优异性能。碳化硅主要有四大应用领域:功能陶瓷、高级耐火材料、磨料及冶金原料。陶瓷粉末伺服成型机——氧化铝、氧化锆、碳化硅方案

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造一颗SiC芯片,需要哪些关键设备?_工艺_碳化硅_中国

2023年5月21日  碳化硅的磨抛设备分为粗磨和细磨设备,粗磨方面国产设备基本可以满足加工需求,但是细磨方面主要采购来自于日本不二越、英国log-itech、日本disco等公司的设备,采用设备与工艺打包销售的方式,极大的增加了工艺厂商的使用成本和维护成本。 造一颗SiC芯片,需要哪些关键设备?_工艺_碳化硅_中国2023年5月21日  碳化硅的磨抛设备分为粗磨和细磨设备,粗磨方面国产设备基本可以满足加工需求,但是细磨方面主要采购来自于日本不二越、英国log-itech、日本disco等公司的设备,采用设备与工艺打包销售的方式,极大的增加了工艺厂商的使用成本和维护成本。

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什么是碳化硅 (SiC)?用途和制作方法 Arrow

2023年6月22日  碳化硅晶片生产的这两种方法都需要大量的能源、设备和知识才能成功。 碳化硅的用途是什么?SiC 的优点 过去,制造商在高温环境下将碳化硅用于轴承、加热机械部件、汽车制动器甚至磨刀工具等设备。在电子和半导体应用中,SiC 的优势主要包括: 什么是碳化硅 (SiC)?用途和制作方法 Arrow2023年6月22日  碳化硅晶片生产的这两种方法都需要大量的能源、设备和知识才能成功。 碳化硅的用途是什么?SiC 的优点 过去,制造商在高温环境下将碳化硅用于轴承、加热机械部件、汽车制动器甚至磨刀工具等设备。在电子和半导体应用中,SiC 的优势主要包括:

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知乎专栏

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碳化硅粉末要点:优点与应用

碳化硅粉末的优点和特性. 碳化硅粉末具有高导热性、超强硬度和高熔点等主要特性。. 这些特性使碳化硅粉末在各种应用中都具有优势,包括在不同行业的研磨、切割和抛光过程中用作磨料。. 碳化硅粉末具有显著的热性能和电性能,能够提高陶瓷、热能工程和 ... 碳化硅粉末要点:优点与应用碳化硅粉末的优点和特性. 碳化硅粉末具有高导热性、超强硬度和高熔点等主要特性。. 这些特性使碳化硅粉末在各种应用中都具有优势,包括在不同行业的研磨、切割和抛光过程中用作磨料。. 碳化硅粉末具有显著的热性能和电性能,能够提高陶瓷、热能工程和 ...

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晶盛机电:2023年营收179.83亿元,8英寸SiC外延炉已实现量产

6 天之前  更多相关议题征集中,演讲及赞助请联系张小姐: 13418617872 (同微信) 02 拟邀企业 高纯碳粉、硅粉、碳化硅粉末、坩埚、籽晶等材料企业; 晶锭、衬底、外延、晶圆等产品企业; 碳化硅晶体、外延生长等设备企业; 晶盛机电:2023年营收179.83亿元,8英寸SiC外延炉已实现量产6 天之前  更多相关议题征集中,演讲及赞助请联系张小姐: 13418617872 (同微信) 02 拟邀企业 高纯碳粉、硅粉、碳化硅粉末、坩埚、籽晶等材料企业; 晶锭、衬底、外延、晶圆等产品企业; 碳化硅晶体、外延生长等设备企业;

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碳化硅微粉,碳化硅超细微粉-潍坊凯华碳化硅微粉有限公司

凯华公司专注碳化硅微粉生产近二十年,有固定的原料供应商,以留美博士潘龙修带领的研发团队8人,自主研发的全自动气流粉碎机、整形机生产线十条,砂磨机超细微粉生产线48条,英国马尔文粒度检测仪和国产检测设备十余台,为防止同台检测仪检测不 碳化硅微粉,碳化硅超细微粉-潍坊凯华碳化硅微粉有限公司凯华公司专注碳化硅微粉生产近二十年,有固定的原料供应商,以留美博士潘龙修带领的研发团队8人,自主研发的全自动气流粉碎机、整形机生产线十条,砂磨机超细微粉生产线48条,英国马尔文粒度检测仪和国产检测设备十余台,为防止同台检测仪检测不

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山东国晶电子科技有限公司

2020年8月21日  高纯碳化硅粉 —— 国晶电子生产的高纯碳化硅粉,使用自创的工艺方法合成,纯度大于>99.999%, B、Al、P等元素杂质小于1ppm, 产品种类包含α相和β相的各种粒径,适用于碳化硅单晶生长原料,半导体设备和LED设备中的精密碳化硅陶瓷部件。碳化硅单晶炉 山东国晶电子科技有限公司2020年8月21日  高纯碳化硅粉 —— 国晶电子生产的高纯碳化硅粉,使用自创的工艺方法合成,纯度大于>99.999%, B、Al、P等元素杂质小于1ppm, 产品种类包含α相和β相的各种粒径,适用于碳化硅单晶生长原料,半导体设备和LED设备中的精密碳化硅陶瓷部件。碳化硅单晶炉

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